什么是真空蒸鍍裝置？
特征在于包括：真空蒸鍍容器，用于在規定的真空條件下從蒸鍍噴嘴排出蒸鍍材料，并將蒸鍍材料蒸鍍在對象物上；至少兩個蒸發裝置，分別具有收容了蒸鍍材料的坩鍋和對所述坩鍋進行加熱的蒸發用加熱裝置；至少兩個輸送管，分別與各所述蒸發裝置連接；合流管，使從各所述輸送管排出的蒸鍍材料合流并向蒸鍍噴嘴送出；以及至少兩個連續蒸鍍操作部，設置于各所述輸送管；各連續蒸鍍操作部分別從蒸發裝置一側開始依次具有：除氣管，與所述輸送管連接，并且在中途安裝有除氣閥；閘閥，能夠關閉和打開輸送管；以及流量調整閥，能夠調整蒸鍍材料的流量，所述真空蒸鍍裝置還具有連續蒸鍍控制器，當更換坩鍋時，所述連續蒸鍍控制器進行控制，以便通過關閉與更換的坩鍋對應的連續蒸鍍操作部的所述閘閥，使與輸送管連接的蒸發裝置的坩鍋向大氣敞開而能夠更換新的坩鍋，并且在更換為新的坩鍋后，在打開所述除氣閥并從所述除氣管對輸送管內的空氣進行除氣而成為規定的真空條件的基礎上。
VE-2013是繼承了VE-2030（本公司生產）概念的簡易真空蒸鍍裝置。帶有內置 TMP 的緊湊型外殼。由于是臺式機，所以不占空間。RP 放在地板上。
我們提供具有小型 TMP + RP 排氣系統且價格低廉的清潔、高真空氣相沉積設備。它是一種全自動控制，消除了復雜的排氣操作，只需打開/關閉觸摸面板開關。
金、鋁、鉻、銀等可以使用鎢籃進行沉積。碳氣相沉積使用使用專用碳 ( SLC-30 )蒸發的夾式氣相沉積槍類型。（不能使用Φ5mm碳棒。）
