可以濺射各種金屬的實驗室沉積裝置MSP-40T介紹

可以濺射各種金屬的實驗室沉積裝置MSP-40T介紹

它是一種多功能型號，可以濺射各種金屬，包括流行的鎢。 它用于從表面觀察到實驗應用的廣泛領域。 高純度真空區(qū)域?qū)τ谥苽涞臉悠分陵P重要。 MSP-40T 能夠因渦輪泵排氣而在真空區(qū)域飛濺。

裝置	特征	目標金屬
	MSP-40T 是一種多用途的實驗室沉積裝置。 新型號配備了全自動薄膜沉積功能。 高效的薄膜沉積，排氣速度快，操作簡單。 各種金屬薄膜可以通過強磁場沉積。 渦輪泵和隔膜泵可實現(xiàn)清潔和高真空。 是一款性價比低廉的設備。 薄膜沉積靶材：金、銀、鉑、金-鈀、鈀、銅、鉻、鈀、鎳、鐵、鎢、鉬、鉬、鈦、鋁、ITO等 。 對于未列出的目標，請聯(lián)系我們。

用于復雜形狀樣品和超高放大倍率觀察

對于形狀復雜且超高放大倍率觀察200，000倍或以上的樣品，請考慮具有出色環(huán)繞性和細顆粒的鋨鍍膜機。

Os：鋨
由于它被包覆在氣體氣氛中，因此可以很好地包裹樣品，并且粒徑非常小。
主要用于涂覆生物樣品和具有三維結(jié)構(gòu)的樣品。

W：鎢
顆粒體系與鋨相當，但由于薄膜沉積方法的差異，其環(huán)繞性不如鋨鍍膜機。